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[发明专利]扫描曝光机校准度检测方法-CN200710036530.1有效
发明人：杨金坡;车越;邹超 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-01-17 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种扫描曝光机校准度检测方法，包括下列步骤：选定作为标准的扫描曝光机，并调整所述的标准扫描曝光机的传输系统的精度；使用所述的标准扫描曝光机在晶片上定义出预定的标记图形，并经刻蚀工艺加工后在晶片上形成立体标记图形；用待测扫描曝光机模拟加工所述的刻有标记的晶片；根据所述的待测扫描曝光机输出的加工结果报告中的偏差值与预定的偏差允许范围判断待测扫描曝光机的校准度。本发明解决了多台扫描曝光机校准不一致时的检测问题。
扫描曝光校准检测方法

[发明专利]一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机-CN202211516147.7在审
发明人：周朝阳 -专利权人：深圳光迪科技有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机，方法包括：控制数字曝光机的曝光头投射图案处于静态全投射状态；以给定的初始曝光头光功率、初始曝光静态扫描速度对曝光头投射图案进行曝光尺标定曝光；根据曝光尺的标定曝光结果调节曝光静态扫描速度以获取满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度；根据曝光头光功率、曝光静态扫描速度，计算动态曝光下曝光头光功率对应的曝光持续时间以及曝光静态扫描速度，以及计算曝光头动态曝光下曝光静态扫描速度对应的曝光持续时间以及曝光头光功率。本方案通过获取静态全投射状态下满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度，可以在感光膜曝光能量或曝光机激光器功率存在偏差的情况下使曝光头光功率、曝光持续时间、最大扫描速度得到快速准确整定。
一种曝光参数快速方法系统数字

[发明专利]光刻机及其扫描曝光方法-CN201110459524.3有效
发明人：伍强;郝静安;刘畅;姚欣;李天慧;舒强;顾一鸣 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机及其扫描曝光方法，利用所述扫描曝光方法进行扫描曝光时，整个硅片的扫描曝光过程由两个运动交替循环构成：扫描曝光运动和步进运动；并且，本发明中的扫描曝光运动为正弦运动，而不是现有技术中的急剧加速-匀速-急剧减速式扫描曝光运动。对单个曝光场进行扫描时，一旦硅片台和掩模台从零速度开始加速，就可对曝光场进行扫描曝光，直至当硅片台和掩模台的速度减小至零时，扫描曝光才结束，极大的增加了扫描曝光运动中的有效率扫描曝光时间，提高了硅片的生产效率另外，由于硅片台、掩模台以单一频率运动，能抑制和补偿光刻机受到的扰动，进而提高硅片上形成图形的精度，并能使扫描曝光速度具有更大的增长空间。
光刻及其扫描曝光方法

[发明专利]一种数字曝光机及其曝光控制方法-CN201911047306.1有效
发明人：王志冲;李付强;刘鹏;冯京;栾兴龙;袁广才;董学 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G03F7/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种数字曝光机及其曝光控制方法，涉及曝光技术领域，采用该方法可以避免因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，减轻周期性一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，该方法包括：从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。本发明适用于显示基板的曝光。
一种数字曝光及其控制方法

[发明专利]一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备-CN202210351933.X在审
发明人：冯京;刘鹏;王志冲;苌川川;袁广才;董学 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-04-02 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备。方法包括：根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；其中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。本公开的技术方案，可以实现一次扫描过程中的多剂量曝光，节约了曝光时间。
一种扫描曝光方法装置设备

[实用新型]曝光机-CN202320267594.7有效
发明人：李辉 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-02-14 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机，包括底座、多个扫描平台、曝光装置和冷却管。每个扫描平台可滑动地设在底座上，多个扫描平台沿底座的宽度方向间隔开。曝光装置可滑动地设在底座上，曝光装置位于扫描平台的上方，曝光装置包括固定板和多个曝光件，多个曝光件间隔设在固定板上；冷却管设在固定板的邻近扫描平台的一侧表面，冷却管包围多个曝光件，且冷却管的形状为蛇形，根据本实用新型的曝光机，及时对曝光件工作过程中产生的热量进行热交换，达到对固定板和曝光件的降温，防止曝光件的热量传递至固定板，避免固定板因热膨胀而使曝光件的位置发生偏差，进而提高了曝光机的对准精度和光刻精度
曝光

[发明专利]曝光系统和曝光系统的剂量控制方法-CN202111681338.4在审
发明人：吴卫军;湛宾洲;郁健;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光系统的剂量控制方法，所述曝光系统具有至少两个分曝光系统，包括：根据每个分曝光系统设定的曝光剂量、设定的基准照度以及有效视场宽度计算每个分曝光系统的最大扫描速度；比较每个分曝光系统的最大扫描速度和工件台支持的最大扫描速度并选择最低值作为工件台的扫描速度；根据所述工件台的扫描速度计算每个分曝光系统中的连续可变衰减器的透过率；根据用户下发的扫描场长度和所述工件台的扫描速度计算扫描时间，并根据所述扫描时间触发同步信号控制指定曝光系统的快门开关进行扫描曝光。解决了多个独立曝光系统的光刻机，无法实现指定的曝光系统独立曝光和不同剂量的曝光的问题。
曝光系统剂量控制方法

[发明专利]光刻机刀口组、大视场光刻机和曝光方法-CN201610378442.9有效
发明人：王斌;杨晓峰;夏洪发 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-05-31 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机刀口组、大视场光刻机和曝光方法，在测试时，扫描向刀口组移动一次进行光照测试，测试完成后移动至对准标记上方；在曝光时，扫描向刀口组跟随掩模台以相同的速度和相同的方向移动，使扫描向刀口组与掩模版的对准标记保持相对静止若为全视场曝光，非扫描向刀口组无需移动，若为局部曝光，则使非扫描向刀口组移动至局部曝光的视场处，由非扫描向刀口组形成的窗口形成控制照明光光斑的形状，然后非扫描向刀口组可保持绝对静止，只需移动掩模台和工作台，即可从一个曝光区域移出该曝光视场，另一个曝光区域移入该曝光视场，继续进行曝光，从而完成所有曝光区域的曝光。
光刻刀口视场曝光方法

[发明专利]基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置-CN201611209441.8在审
发明人：陈星宏;周詹闵 -专利权人：光宝电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司
申请日： 2016-12-23 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。曝光控制方法包括：以第一投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并捕获物体对应所述扫描图样的多个第一影像；根据上述第一影像计算出第一立体影像；以第二投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并捕获物体对应所述扫描图样的多个第二影像，其中第二投影机亮度小于第一投影机亮度；根据所述第二影像计算出第二立体影像；以及结合第一立体影像及第二立体影像以获得第一完整立体影像。本发明的曝光控制方法及曝光控制装置能够结合不同曝光条件的立体影像获得完整立体影像。
立体影像投影机亮度曝光控制扫描图样结构光曝光控制装置扫描物体影像计算投射捕获影像曝光条件

[发明专利]光刻机扫描曝光方法-CN200910046823.7有效
发明人：张俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-02-27 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机扫描曝光方法，其在光刻机的硅平面上设置相互正交的两个方向，并将所述硅平面分为若干曝光场区域，所述光刻机上设置有可变狭缝，所述可变狭缝在所述的两个方向上分别设置有刀口，先对曝光场区域其中一个方向扫描曝光，再对同一曝光场区域另一个方向扫描曝光，当对曝光场区域其中一个方向扫描曝光时，所述可变狭缝在该方向的刀口从闭合状态开始逐渐打开至最大，再逐渐缩小至闭合状态。本发明通过先对曝光场区域其中一个方向扫描曝光，再对同一曝光场区域另一个方向扫描曝光。改善了曝光场区域Y方向的剂量均匀性，又能改善X方向的剂量均匀性，从而改善曝光剂量的系统性能，提高光刻线宽的均匀性。
光刻扫描曝光方法

[实用新型]超长工件图形转移曝光机-CN202220404756.2有效
发明人：刘保华;徐小龙;管燕彬 -专利权人：昆山建高远自动化科技有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种超长工件图形转移曝光机，包括机架，所述机架的上端设有上框架，所述上框架的拐角处设有锁框机构，所述上框架上方安装的上灯扫描轨道滑接有上LED扫描光源，所述上框架的底部通过下灯扫描轨道支撑架设有下灯扫描轨道，所述下灯扫描轨道上滑接有下LED扫描光源，所述下灯扫描轨道支撑架中部安装有LED光源控制系统。所述机架的左前端安装有曝光机控制操作面板，所述曝光机控制操作面板电性连接于LED光源控制系统。本实用新型通过曝光机控制操作面板控制锁框机构将上框架锁框吸真空，曝光等按钮，实现超长工件图转移，工作效率高，上框架的锁紧定位效果好，有利于超长工件板精确定位，保证曝光质量。
超长工件图形转移曝光

[实用新型]一种全自动曝光机-CN201821729942.3有效
发明人：王雷;卢根平;董猛;刘文日;杨振川 -专利权人：江西旭昇电子有限公司
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动曝光机。所述全自动曝光机包括曝光台面；移动平台，所述移动平台设于所述曝光台面，且所述移动平台上设有用于线路板定位的定位销；第一对位装置，所述第一对位装置包括设于所述曝光台面进料端一侧用于扫描线路板内孔位的第一扫描装置，及用于调整所述移动平台位置的第一控制装置，所述第一扫描装置与所述第一控制装置电连接；第二对位装置，所述第二对位装置包括设于所述曝光台面上方用于扫描线路板外围孔的第二扫描装置及用于调整曝光玻璃位置的第二控制装置，所述第二扫描装置与所述第二控制装置电连接。本实用新型提供的全自动曝光机，可有效避免曝光偏孔和拒曝等问题，提高单双面板定位精度。
全自动曝光机对位装置控制装置曝光台面扫描装置移动平台线路板本实用新型电连接扫描曝光玻璃板定位定位销进料端外围孔内孔偏孔曝光

[发明专利]一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法-CN201210345173.8有效
发明人：张爱明;李显杰;陈勇;陈修涛 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2012-09-17 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法，包括对矢量数据的存储、栅格化处理、对数据进行重新组合、扫描曝光时按指定规则读取组合后的数据进行曝光。本发明提高了扫描式无掩膜光刻机的曝光分辨率，在同样的SLM物理网格精度下成倍的提高曝光精度。
一种用于扫描式无掩膜光刻倾斜 slm 曝光数据处理方法

[发明专利]曝光机的扫描光源的控制方法及电脑程序产品-CN201610200310.7有效
发明人：张鸿明 -专利权人：川宝科技股份有限公司
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭露一种曝光机的扫描光源的控制方法及其计算机程序产品，运作于具有多个发光组件组成的灯条的曝光机中以对光阻进行曝光，包含：设定单次扫描所需的曝光能量值；提供增益先决模式或时间先决模式的设定；及依据所设定的模式驱动该灯条执行曝光扫描因此，操作者可依循本案的控制扫描光源的方法来有规划地逐步完成各种所需的扫描光源的调控，进而可有效率地达成光阻聚合的最佳效果。
曝光扫描光源控制方法电脑程序产品

[发明专利]晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法-CN201010290341.9有效
发明人：简聪智;陈永镇;李宏仁 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2010-09-20 - 公布日： 2011-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法，该晶片边缘曝光模块连接至一半导体晶片涂布显影系统。该晶片边缘曝光模块包括一晶片旋转装置、一光学系统、一扫描机界面模块以及一控制器。该光学系统同时将一曝光光线指向该晶片的一各别边缘部分，以于该晶片的边缘上创造一伪图案。该扫描机界面模块通过一计算机网络传送及/或接收来自一扫描机的一伪边缘曝光信息。该控制器接收来自该扫描机界面模块的该伪边缘曝光信息，并利用该伪边缘曝光信息控制该光学系统。本发明可减少扫描机曝光时间及增加产率。
晶片边缘曝光模块方法

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